I800W

For Semiconduct PECVD and HDPCVD Processes

NANOPURE® I800W는 반도체 공정을 위해 특별히 개발되어진 제품입니다.
NANOPURE® I800W는 고온에서의 NF3 플라즈마에 의한 최소한의 입자생성을 위해 설계되었습니다. 특히 불소 및 산소계 플라즈마 환경에서 낮은 식각률과 우수한 기계적 강도를 가지고 있습니다.
NANOPURE® I800W는 최대 320℃에서 사용 가능합니다.

Features & Benefit

  • Excellent mechanical strength properties
  • Excellent resistance to ‘dry’ gas process environments
  • Very low weight loss in reactive plasmas
  • Excellent (low) compression set properties
  • Excellent elastic recovery properties

Suggested Applications

  • Chamber lid seals
  • Gas inlet seals
  • Quartz window seals
  • Other thermal applications
  • Other plasma applications

Typical Physical Properties

Color White
Polymer Type Perfluoroelastomer
Hardness1), Shore A 76
Tensile Strength at Break2), MPa 12.0
Elongation at Break3), % 250
100% Modulus4), MPa 5.0
Compression Set5), %
70 hours @ 204℃ 17
70 hours @ 250℃ 25
70 hours @ 300℃ 49
70 hours @ 325℃  
Maximum Continuous Service,
Temperature, ℃
320
  1. ASTM D1415 (ISO 48)
  2. ASTM D412 (ISO 37)
  3. ASTM D412 (ISO 37)
  4. ASTM D412 (ISO 37)
  5. ASTM D395 Method B ; (ISO 815)

추천 사용 공정

높은 내열이 필요한 플라즈마 공정



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